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镁合金微弧氧化膜研究取得新进展
2012-12-10| 【 【打印】【关闭】

  微弧氧化膜(MAO)又称等离子体氧化(PEO),它突破传统阳极氧化技术的限制,将工作电压引入到几百伏的高压放电区,能在镁合金表面原位生长一层陶瓷结构的氧化膜,该膜与基体结合力强,厚度可控,可有效改善镁合金的耐蚀性、耐磨性、抗热冲击性及绝缘性,在航天、航空、机械及电子等领域有广泛的应用前景,已成为镁合金表面处理研究的热点。

  微弧氧化膜的生长是一个“成膜-击穿-融化-烧结-再成膜”的多次循环过程,导致膜中存在大量微孔无法避免。这些微孔可能成为腐蚀介质进入镁基体的通道,影响氧化膜的耐蚀性。针对上述问题,本课题组采用新型的复合电解液及适合的电参数获得了自封孔型微弧氧化膜,该膜的表面和截面形貌如图1所示。膜表面存在的较大微孔已被填封,且该膜与基体的结合良好。自封孔微弧氧化膜的阻抗值比传统微弧氧化膜的提高了三个数量级(见图2),中性盐雾试验2000小时未见腐蚀。

  该技术已经在某些产品上批量应用,相关研究成果发表在Corrosion Science 53 (2011) 3845-3852, Surface & Coatings Technology 206 (2011) 455-463, Materials and Corrosion 2011(62)1124-1132。

 

  Fig. 1 Surface (a) and cross-section (b) morphologies of the self-sealing pores MAO film

  Fig. 2 EIS plots of self-sealing pores and traditional silicate MAO films in 3.5 % NaCl

 
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